直流中頻兩用磁控濺射電源特點: 1.可通過設置在直流和中頻電源之間切換。 2.靈敏的過流(滅?。┍Wo。 3.電子電抗,負載匹配性好。 4.集成化設計、體積小、水冷更穩定!
無需雙靶,單靶可制作中頻工藝!
獨家發布!電源革命??!
國家發明專利?。?!
直流中頻兩用磁控濺射電源特點:
1.可通過設置在直流和中頻電源之間切換。
2.靈敏的過流(滅?。┍Wo。
3.電子電抗,負載匹配性好。
4.集成化設計、體積小、水冷更穩定!
5.做中頻電源使用時,無需孿生靶材,即可用單靶制作中頻工藝。
6.可執行90%以上孿生陰極的工藝,可做化合物,反應濺射,有效防止靶材中毒。
7.與傳統中頻電源相比,顯著提高離化率!幾乎相當于直流電源的離化效率。
5.N+1備份,可做到永不停產!
典型應用:
1.LOW-E低輻射玻璃鍍膜,可制備SIO2,TIO2,SIN,CRN,TIN,等等化合物。
2.ITO鍍膜,SIO2,等
3.陶瓷多弧磁控濺射鍍膜設備。
4.ITO氧化銦錫濺射鍍膜設備。
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PLT/PS-DCS直流中頻兩用磁控濺射電源型號及參數
型 號 額定功率 冷卻方式 控制方式 空載電壓 最大電流 模塊數量
PLT/PSDCS15K 15KW 風冷+水冷 恒電流 DC800V 25A 1+1
PLT/PSDCS30K 30KW 風冷+水冷 恒電流 DC800V 50A 1+2
PLT/PSDCS45K 45KW 風冷+水冷 恒電流 DC800V 75A 1+3
PLT/PSDCS60K 60KW 風冷+水冷 恒電流 DC800V 100A 1+4
上述型號,機身尺寸全部:L580 X W445 X H180m
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